仪器仪表公司动态
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FL6004智能型流动传感器,全不锈钢金属外壳,Seal Plus 防水结构,管路连接:内螺纹 M18 x 1.5,功能可以编程,M12 接插件,应用范围 液体和气体,电气设计 AC Relay,工作电压[V] 85…265 AC,输出功能 常开 常闭.阅读详情
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FL6003智能型流动传感器,全不锈钢金属外壳,Seal Plus 防水结构,内螺纹 M18 x 1.5,功能可以编程,M12 接插件,应用范围 液体和气体,输出功能 常开 常闭,介质温度[℃/℉] -25…80/-13...176阅读详情
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EMA FL6002的特点及EMA流动开关的主要型号:FL6003 FL6004 FL6001 FL6005,FL6011,FL6022,FL6012,FL6013,FL6101,FL6102,FL6103,FL6104,FL6021,FL6022,FL6023,FL6024,FL6025阅读详情
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EMA伊玛流动传感器FL6001流量开关主要型号有:FL6001, FL6002, FL6003, FL6004, FL6005, FL6011, FL6013,FL6022, FL6023, FL6024,, FL6101, FL6102, FL6103, FL6104, FL6105,FL6201,FL3301, FL3302, FL3303, FL3305, FL3201, FL3202,阅读详情
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上海伯东客户某高校使用国产品牌离子束溅射镀膜机用于金属薄膜制备, 工艺過程中, 国产离子源钨丝仅使用 18个小时就会烧断, 需要中断镀膜工艺更换钨丝, 无法满足长时间离子束溅射镀膜的工艺要求, 导致薄膜质量低的情况. 客户需要离子源的稳定工作时间不低于 48个小时, 经过伯东推荐最终改用美国 KRi 射频离子源 RFICP 100 替换原有的国产离子源, 单次工艺时间可以达到数百小时, 完全符合客户长时间镀膜的工艺要求, 维持高稳定离子束溅射工艺获得高品质薄膜.阅读详情
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上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.阅读详情
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上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护, 安装于各类真空设备中, 例如 e-beam 电子束镀膜机, load lock, 溅射系统, 分子束外延, 脉冲激光沉积等, 实现 IBAD 辅助镀膜的工艺.阅读详情
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通过使用上海伯东美国 KRi 离子源可实现基板清洁和加速镀膜材料的溅射速度, 并且离子源在材料沉积过程中可帮助沉积并使沉积后的薄膜更为致密, 膜基附着力更好, 膜层不易脱落. 其中射频离子源提供高能量, 低浓度的离子束, 离子源单次工艺时间更长, 适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜工艺.阅读详情
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